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新型0.1%超高精度真空压力控制技术在单晶生长工艺中的应用

摘要：针对晶体生长和CVD等半导体设备中对0.1%超高精度真空压力控制的要求，本文对相关专利技术进行了分析，认为采用低精度的真空度...

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